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    • T7耐高溫高產量RNA合成試劑盒

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    產品簡介


    T7 耐高溫高產量 RNA 合成試劑盒可在較高溫度 50℃下進行體外轉錄，以含有 T7 啟動子序列的線性雙鏈 DNA 為模板、NTPs 為底物對啟動子下游 DNA 序列進行轉錄，獲得 RNA 產物。T7 耐高溫高產量 RNA 合成試劑盒也能以修飾核苷為底物獲得生物素、染料或放射性標記的RNA，以帽子結構或帽子類似結構為底物獲得加帽的 RNA。高溫反應有助于減少 dsRNA 副產物的形成，減少轉錄產物 RNA 的免疫原性。

    本試劑盒內含常用的修飾核苷 N1-Me-pUTP供轉錄需求選擇使用。



    性能優勢


    本試劑盒一個反應能夠轉錄獲得 150～200μg 的 RNA 產物，并可放大生產毫克級別的 RNA。



    下游應用


    轉錄合成的 RNA 可用于 RNA 結構和功能研究、RNase 保護、探針雜交、anti-sense RNA 和RNAi 等應用，也可通過加帽加尾產生mRNA，用于體外翻譯、轉染等下游應用。 



    運輸與保存


    ≤0℃運輸；-25℃～-15℃條件下可保存一年。



  • 耐熱性強：

    圖片3.png   


    GSPure?T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit在50℃下仍能保持活性并高效轉錄。



    轉錄長度范圍廣：

    圖片4.png


    GSPure?T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit在合成300~6000nt長度的轉錄本時保持優良的轉錄效果。



    轉錄產量高：

    圖片5.png


    GSPure?T7 Thermostable and High Yield RNA Synthesis Kit的30μL反應體系中，1μg DNA模板投入可合成250~300μg RNA。


  • 1、轉錄產物產量低或轉錄失敗

    ①可能是模板自身原因，建議重新純化或線性化模板；

    ②重新確認模板定量及完整性；

    ③加大模板投入量；

     

    2、產物電泳拖尾現象

    ①實驗操作過程被 RNase 污染；②DNA 模板被 RNase 污染；

     

    3、RNA 產物片段與預期不符

    ①質粒模板沒有完全線性化；

    ②RNA 存在未完全變性的二級結構，建議使用變性膠檢測 RNA 產物；

    ③模板 GC 含量高，可能形成高級結構；

    ④RNase 污染；

    ⑤模板序列中包含類似 T7 RNA 聚合酶終止序列，導致轉錄提前終止，建議嘗試不同的 RNA聚合酶。

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GSPure?T7 Thermostaboe and High Yield RNA Synthesis Kit R0405 50 rxns 2080
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